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非傍軸衍射分束器的設計與嚴格分析
時間:2023-11-14 17:20來源:訊技光電作者: 技術(shù)部點擊:次打印
摘要
 
  
非傍軸衍射光束分束器的直接設計仍然是一個挑戰(zhàn)。由于衍射角度相當大,元件的特征尺寸與光的波長相近。因此,通常使用的傍軸建模方法變得不準確,需要嚴格的技術(shù)。因此,在這個例子中,迭代傅里葉變換算法(IFTA)和薄元件近似(TEA)被用于衍射光學元件(DOE)的初步設計,并且之后使用傅里葉模式方法(FMM)也稱為嚴格耦合波分析(RCWA)進行嚴格的性能評估,包括在高度變化的情況下對優(yōu)點函數(shù)變化的研究。
 
任務 
• 使用傍軸近似(TEA)進行衍射1:7×7光束分束器的初步設計,用于結(jié)構(gòu)設計部分。
• 使用嚴格分析(FMM/RCWA)對性能進行分析和進一步優(yōu)化,以提高均勻性并評估零階的影響。
 
 
模擬與設置:工具簡介與整體流程概覽
連接建模技術(shù):衍射光束分束器
  

 
通過配置助手和IFTA進行相位設計
 
 
將傳輸函數(shù)轉(zhuǎn)化為結(jié)構(gòu)
 
 
衍射光束分束器表面
 
 
衍射光束求解器 - TEA & FMM
 
 
光柵級數(shù) & 可編程光柵分析器
 
 
設計與評估結(jié)果
• 相位函數(shù)設計
• 結(jié)構(gòu)設計
• TEA 評估
• FMM 評估
• 高度縮放檢查(用于優(yōu)化/容限)
 
僅相位傳輸設計
 
 
結(jié)構(gòu)設計
 
 
使用TEA進行性能評估
 
 
使用FMM進行性能評估
 
 
進一步的分析(優(yōu)化后,容差分析)
 

 
進一步優(yōu)化 - 調(diào)整設計#1的零階
 
 
進一步優(yōu)化 - 調(diào)整設計#2的零階
 
 
進一步優(yōu)化 - 調(diào)整設計#3的零階
 
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