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VirtualLab Fusion應(yīng)用：隨機分布公差分析

摘要 
 

 

對于具有許多參數(shù)的系統(tǒng)，可以通過在給定邊界內(nèi)隨機改變參數(shù)來研究公差。VirtualLab Fusion提供了各種隨機分布來幫助光學工程師完成這項任務(wù)。在參數(shù)運行文檔中，用戶可以指定參數(shù)為均勻、正態(tài)或非對稱正態(tài)分布。

 

在哪里可以找到組件？
 

                                                     

 

Property Browser可以在主窗口的右側(cè)找到。它與VirtualLab Explorer、Assistant和Distributed Computing共享同一個面板。

顯示的選項和屬性取決于活動*文檔的類型(例如，數(shù)據(jù)陣列、光學設(shè)置等)。

 

*活動文檔是用戶點擊的最后一個文檔。                                           

 

分布預(yù)覽                                  

                                                                           

 

 

均勻分布

                                                                             

對于Uniform Distribution，參數(shù)范圍內(nèi)的所有值被隨機函數(shù)選中的概率相同。

 

基于標準差的正態(tài)分布
 

                                                                       

 

正態(tài)分布-參數(shù)范圍
 

                                                      

 

正態(tài)分布–截止分布
 

 

基于過程能力的正態(tài)分布 
 

                                                           

 

正態(tài)分布-區(qū)間中的相對位置
 

                                                                   

 

正態(tài)分布-過程能力指數(shù)
 

                                                             

 

結(jié)果分析
                                                                    

例如找到傾斜角在-2°/2°特定光柵的最小效率:

 

                                                                   

 

文件信息