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Essential Macleod新版本12.6更新內(nèi)容

Essential Macleod 12.6新版本已經(jīng)正式發(fā)布，更新內(nèi)容如下：

Core

1. 現(xiàn)在可以隨時(shí)訪問“厚層設(shè)計(jì)”的偏振選項(xiàng)，在此之前，當(dāng)使用入射角列表時(shí)，偏振選項(xiàng)無法更改。

2. 散射工具（scattering tool）現(xiàn)在可以計(jì)算BRDF/BTDF以及角分辨散射。

3. 在散射工具中添加了散射積分計(jì)算。總散射積分是角分辨散射在反射半球和透射半球上的積分。為方便起見，反射半球和透射半球的散射積分是分開提供的。

4. 現(xiàn)在，Essential Macleod可以讀取日立光譜儀生成的udss文件。Essential Macleod將帶有udss擴(kuò)展名的文件假定包含日立格式的數(shù)據(jù)，并自動(dòng)解碼。

5. 反演工程（Reverse Engineer）現(xiàn)在支持在不同基板上進(jìn)行測量。每個(gè)測量頁面都可以指定用于測量的基板。如果基板為空白，就會(huì)調(diào)用“設(shè)計(jì)”（Design）頁面的基板。

6. 現(xiàn)在的設(shè)計(jì)可以導(dǎo)出使用于Synopsys的LightTools軟件。使用File>Export>LightTools來導(dǎo)出數(shù)據(jù)

 

Runsheet

1. Runsheet現(xiàn)在可以導(dǎo)出一個(gè)設(shè)計(jì)文件，該文件包含在Runsheet中使用的監(jiān)測芯片的預(yù)期厚度。選擇要導(dǎo)出的包含芯片的層（或該芯片上的一個(gè)層），然后使用File>Export>Chip Design來創(chuàng)建設(shè)計(jì)。